Semiconductor element and semiconductor memory device using the same

   
   

A field-effect semiconductor element implemented with a fewer number of elements and a reduced area and capable of storing data by itself without need for cooling at a cryogenic temperature, and a memory device employing the same. Gate-channel capacitance is set so small that whether or not a trap captures one electron or hole can definitely and distinctively be detected in terms of changes of a current of the semiconductor FET element. By detecting a change in a threshold voltage of the semiconductor element brought about by trapping of electron or hole in the trap, data storage can be realized at a room temperature.

Элемент полупроводника field-effect снабженный с немногим номером элементов и уменьшенной области и способный хранить данные собой без потребности для охлаждать на криогенной температуре, и приспособление памяти используя эти же. емкость Строб-kanala установлена настолько малой что захватывает ли или не ловушка один электрон или отверстие смогите определенно и своеобразнейше быть обнаружено in terms of изменения течения элемента fet полупроводника. Путем обнаруживать изменение в напряжении тока порога элемента полупроводника принесенного около запутыванием электрона или отверстием в ловушке, хранений данных можно осуществить на температуре комнаты.

 
Web www.patentalert.com

< Even nucleation between silicon and oxide surfaces for thin silicon nitride film growth

< Capacitor structure

> Semiconductor device including transistor with composite gate structure and transistor with single gate structure, and method for manufacturing the same

> High-voltage vertical transistor with a multi-layered extended drain structure

~ 00130