System and method for using a capacitance measurement to monitor the manufacture of a semiconductor

   
   

A method for measuring a capacitance of a semiconductor is provided that includes positioning a measurement circuit in a scribe line area associated with the semiconductor. The scribe line area is indicative of a delineation that separates one or more portions of the semiconductor. A capacitance of one or more elements included within the one or more portions of the semiconductor is then measured using the measurement circuit. The method also includes comparing the capacitance measurement of the one or more elements included within the one or more portions of the semiconductor to a reference set of capacitance values such that a parameter associated with a manufacturing process that generated the semiconductor may be checked.

Un método para medir una capacitancia de un semiconductor es a condición de que incluye la colocación de un circuito de la medida en una línea de escribano área asociada al semiconductor. La línea de escribano área es indicativa de una delineación que separe unas o más porciones del semiconductor. Una capacitancia de unos o más elementos incluidos dentro de las unas o más porciones del semiconductor entonces se mide usando el circuito de la medida. El método también incluye comparar la medida de la capacitancia de los unos o más elementos incluidos dentro de las unas o más porciones del semiconductor a un sistema de la referencia de valores de la capacitancia tales que un parámetro se asoció a un proceso de fabricación que generó el semiconductor puede ser comprobado.

 
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