The present invention is directed to a thermally curable polymer
composition, and a photolithographic substrate coated therewith, the
composition comprising a hydroxyl-containing polymer, an amino
cross-linking agent and a thermal acid generator. The thermally curable
polymer composition may be dissolved in a solvent and used as an undercoat
layer in deep UV lithography.
A invenção atual é dirigida a uma composição tèrmica curable do polímero, e uma carcaça photolithographic revestida therewith, a composição que compreendem um polímero hydroxyl-contendo, um amino agente do cross-linking e um gerador ácido térmico. A composição tèrmica curable do polímero pode ser dissolvida em um solvente e ser usada como uma camada do undercoat no lithography UV profundo.
