In an optical lithography using a mask pattern, or producing a large
quantity of three-dimensional articles rapidly with high precision, a
predetermined mask pattern is drawn directly on the surface of a resin
composition for optical lithography, and the mask pattern is irradiated
with light, thereby irradiating the surface of the resin composition
containing a photocurable component through the mask pattern The step of
forming a cured resin layer corresponding to the drawing is repeated to
form a three-dimensional article composed of multiple cured resin layers.
Thus, unlike the beam scanning, the curing is uniform in cross section.
In litografia ottica usando un modello di mascherina, o producendo una grande quantità di articoli tridimensionali velocemente con l'alta precisione, un modello di mascherina predeterminato è disegnato direttamente sulla superficie di una composizione della resina per la litografia ottica ed il modello di mascherina è irradiato con luce, quindi irradiante la superficie della composizione della resina che contiene un componente photocurable attraverso il modello che di mascherina il punto di formare uno strato curato della resina che corrisponde all'illustrazione è ripetuto per formare un articolo tridimensionale ha composto di strati curati multipli della resina. Quindi, diverso dell'esame del fascio, il trattamento è uniforme nella sezione trasversale.
