Method of analyzing composition depth profile of solid surface layer

   
   

A method of analyzing a composition depth profile of a solid surface layer, wherein actually-measured intensity of photoelectrons emitted from the solid surface layer by irradiating the solid surface layer containing at least two or more species of element with X rays and photoelectron calculated intensity obtained by making a calculation assuming an elemental composition ratio for each of a plurality of sub-layers into which the solid surface layer has been temporarily divided are utilized to determine a composition depth profile of the solid surface layer, the method including a step of at least repeating an approximate calculation including: distinguishing a specified sub-layer such that the calculated intensity best converges to the actually-measured intensity in the sub-layers; and correcting an elemental composition ratio at least for the specified sub-layer so that the calculated intensity converges to the actually-measured intensity, thereby determining the composition depth profile of the solid surface layer.

Een methode om een profiel van de samenstellingsdiepte van een stevige oppervlaktelaag te analyseren, waarin de eigenlijk-gemeten intensiteit van foto-elektronen die van de stevige oppervlaktelaag door de stevige oppervlaktelaag worden uitgezonden te bestralen die minstens twee of meer soorten element met de stralen van X en foto-elektron bevat intensiteit berekende die door een berekening wordt verkregen veronderstellend te maken een elementaire samenstellingsverhouding voor elk van een meerderheid van sub-layers waarin de stevige oppervlaktelaag tijdelijk is verdeeld wordt gebruikt om een profiel van de samenstellingsdiepte van de stevige oppervlaktelaag te bepalen, de methode met inbegrip van een stap van minstens het herhalen van een benaderende berekening met inbegrip van: het onderscheiden van gespecificeerde sub-layer dusdanig dat het berekende intensiteitsbeste aan de eigenlijk-gemeten intensiteit in sub-layers samenkomt; en verbeterend een elementaire samenstellingsverhouding op zijn minst voor gespecificeerde sub-layer zodat de berekende intensiteit aan de eigenlijk-gemeten intensiteit samenkomt, daardoor bepalend het profiel van de samenstellingsdiepte van de stevige oppervlaktelaag.

 
Web www.patentalert.com

< Limiter optics

< Resonant reflector for use with optoelectronic devices

> Generating and displaying a virtual core and a virtual plug associated with a selected piece of the virtual core

> Rendering of photorealistic computer graphics images

~ 00127