A photomask and integrated circuit manufactured by eliminating design rule
violations during construction of a mask layout block are disclosed. A
photomask includes a substrate and a patterned layer formed on at least a
portion of the substrate. The patterned layer may be formed using a mask
pattern file created by analyzing a selected position for a polygon in a
mask layout block, identifying a design rule violation in the mask layout
block if the selected position is less than a design rule from a
technology file, and automatically preventing the polygon from being
placed in the mask layout block at the selected position if the design
rule violation is identified.
Un photomask et un circuit intégré construits en éliminant des violations de règle de conception pendant la construction d'un bloc de disposition de masque sont révélés. Un photomask inclut un substrat et une couche modelée formés sur au moins une partie du substrat. La couche modelée peut être formée en utilisant un dossier de modèle de masque créé en analysant une position choisie pour un polygone dans un bloc de disposition de masque, identifiant une violation de règle de conception dans le bloc de disposition de masque si la position choisie est moins qu'une règle de conception à partir d'un dossier de technologie, et empêchant automatiquement le polygone d'être placé dans le bloc de disposition de masque à la position choisie si la violation de règle de conception est identifiée.
