Photosensitive polymer and photoresist composition thereof

   
   

A photosensitive polymer having a hydroxy alkyl vinyl ether monomer and a resist composition are provided. The photosensitive polymer includes an alkyl vinyl ether monomer having the formula, and the photosensitive polymer has a weight average molecular weight of 3,000 to 50,000: ##STR1## where x is an integer from 3 to 6 inclusive, R.sub.1 and R.sub.2 are independently alkyl having from 1 to 20 carbon atoms, fluorinated alkyl having from 1 to 10 carbon atoms or perfluoronated alkyl having from 1 to 10 carbon atoms.

Ένα φωτοευαίσθητο πολυμερές σώμα που έχει ένα υδροξύ αλκυλικό βινυλίου μονομερές αιθέρα και αντιστέκεται στη σύνθεση παρέχεται. Το φωτοευαίσθητο πολυμερές σώμα περιλαμβάνει ένα αλκυλικό βινυλίου μονομερές αιθέρα που έχει τον τύπο, και το φωτοευαίσθητο πολυμερές σώμα έχει ένα μέσο μοριακό βάρος βάρους 3.000 έως 50.000: ## STR1 ## όπου το Χ είναι ένας ακέραιος αριθμός από 3 έως 6 συμπεριλαμβάνοντα, R.sub.1 και R.sub.2 είναι ανεξάρτητα αλκυλική κατοχή από 1 έως 20 άτομα άνθρακα, φθοριωμένο αλκύλιο έχοντας από 1 έως 10 άτομα άνθρακα ή το αλκύλιο που έχει από 1 έως 10 άτομα άνθρακα.

 
Web www.patentalert.com

< Adhesive for semiconductor part

< Copolymers and photoresist compositions comprising same

> Catalytically accelerated gas phase reactions

> Impact resistant rigid PVC compositions using hydrocarbon rubbers and chlorinated polyethylene as impact modifiers

~ 00126