An exposure apparatus for illuminating a reticle with exposing light from
an exposing light source via a light-source lens system, and projecting a
pattern, which has been formed on the reticle, onto a wafer via a
projection lens system, thereby exposing the wafer to the pattern. The
apparatus includes vessels for hermetically sealing the light-source lens
system and the projection lens system disposed on the optical path of the
exposing light from the exposing light source to the reticle, a gas supply
unit for supplying the vessels with a specific gas, a vacuum source for
evacuating the interior of the vessels, a vacuum-pressure controller for
exercising control to hold the internal pressure of the vessels constant,
and an escape valve for reducing the differential pressure between the
internal pressure of the vessels and atmospheric pressure to a value below
a predetermined pressure.
Un aparato de exposición para iluminar un retículo con exponer la luz de una fuente de luz que expone vía un sistema de la lente de la fuente luminosa, y la proyección de un patrón, que se ha formado en el retículo, sobre una oblea vía un sistema de la lente de la proyección, de tal modo exponiendo la oblea al patrón. El aparato incluye los recipientes para hermético sellar el sistema de la lente de la fuente luminosa y el sistema de la lente de la proyección dispuestos en la trayectoria óptica de la luz que expone de la fuente de luz que expone al retículo, de una unidad de la fuente de gas para proveer los recipientes de un gas específico, de una fuente del vacío para evacuar el interior de los recipientes, de un regulador de la vaci'o-presio'n para ejercitar control para llevar a cabo la presión interna de la constante de los recipientes, y de una válvula del escape para reducir la presión diferenciada entre la presión interna de los recipientes y la presión atmosférica a un valor debajo de una presión predeterminada.
