An in-line system and method for determining T-top gate dimensions is
provided. The system comprises a wafer structure undergoing a T-top gate
formation process; a scatterometry system coupled to the formation process
for directing light at and collecting reflected light from the wafer
structure; a signature store; a T-top gate formation analysis system
coupled to the scatterometry system and to the signature store for
determining the T-top gate dimensions; and a feedback control system
coupled to the T-top gate formation analysis system for optimizing T-top
gate formation. The method comprises providing a wafer structure having a
T-top gate formed thereon; generating a signature associated with the
T-top gate; comparing the generated signature with a signature store to
determine the dimensions of the T-top gate; if the dimensions of the T-top
gate are not within a pre-determined acceptable range, then adjusting
T-top gate process parameters using feedback control.
Un sistema y un método en línea para determinar dimensiones de la puerta de la T-tapa se proporciona. El sistema abarca una estructura de la oblea que experimenta un proceso de la formación de la puerta de la T-tapa; un sistema scatterometry juntado al proceso de la formación para dirigir la luz en y recoger la luz reflejada de la estructura de la oblea; un almacén de la firma; un sistema del análisis de la formación de la puerta de la T-tapa juntado al sistema scatterometry y al almacén de la firma para determinar las dimensiones de la puerta de la T-tapa; y un sistema de control de regeneración juntado al sistema del análisis de la formación de la puerta de la T-tapa para la formación óptima de la puerta de la T-tapa. El método abarca el abastecimiento de una estructura de la oblea que hace una puerta de la T-tapa formar sobre eso; generando una firma se asoció a la puerta de la T-tapa; comparar la firma generada con un almacén de la firma para determinar las dimensiones de la puerta de la T-tapa; si las dimensiones de la puerta de la T-tapa no están dentro de una gama aceptable predeterminada, entonces ajustando parámetros del proceso de la puerta de la T-tapa usando control de la regeneración.
