An exposure apparatus includes an illumination optical system for
illuminating a pattern of a reticle with laser light outputted from a
continuous emission laser, a projection optical system for projecting the
illuminated pattern onto a subject to be exposed, and an interferometer,
of a Fizeau type, being operable while using laser light outputted from
the continuous emission laser.
Прибор выдержки вклюает освещение оптически, котор система для освещать картину перекрещения с светом лазера outputted от непрерывного лазера излучения, подвергалась действию система проекции оптически для проектировать загоранную картину на а subject to, и интерферометр, типа Fizeau, был действующей пока использующ свет лазера outputted от непрерывного лазера излучения.
