The present invention provides an optoelectronic device, a method of
manufacture thereof, and an optical communication system including the
same. The optoelectronic device may include, in one particular embodiment,
an active device located over a substrate and a passive device located
proximate the active device and over the substrate. The optoelectronic
device may further include a doped cladding layer located over the active
and passive devices and a barrier layer located over the doped cladding
layer and the passive device.
La presente invenzione fornisce un dispositivo optoelettronico, un metodo della fabbricazione di ciò e un sistema di comunicazione ottico compreso lo stesso. Il dispositivo optoelettronico può includere, in un procedimento particolare, un dispositivo attivo situato sopra un substrato e un prossimo individuato dispositivo passivo il dispositivo e l'eccedenza attivi il substrato. Il dispositivo optoelettronico può più ulteriormente includere uno strato verniciato del rivestimento posizionato sopra i dispositivi attivi e passivi e un'eccedenza individuata di strato di sbarramento lo strato verniciato del rivestimento ed il dispositivo passivo.
