The invention describes the use of oxime alkyl sulfonate compounds of
formula 1
##STR1##
R.sub.0 is either an R.sub.1 --X group or R.sub.2 ;
X is a direct bond, an oxygen atom or a sulfur atom;
R.sub.1 is hydrogen, C.sub.1 -C.sub.4 alkyl or a phenyl group which is
unsubstituted or substituted by a substituent selected from the group
consisting of chloro, bromo, C.sub.1 -C.sub.4 alkyl and C.sub.1 -C.sub.4
-alkyloxy;
R.sub.2 is hydrogen or C.sub.1 -C.sub.4 alkyl; and
R.sub.3 is straight-chain or branched C.sub.1 -C.sub.12 alkyl which is
unsubstituted or substituted by one or more than one halogen atom;
as photosensitive add generator in a chemically amplified photoresist which
is developable in alkaline medium and which is sensitive to radiation at a
wavelength of 340 to 390 nanometers and correspondingly composed positive
and negative photoresists for the above-mentioned wavelength range.
Die Erfindung beschreibt den Gebrauch des Oxims, das Alkylsulfonatmittel von Formel 1 ## STR1 ## R.sub.0 entweder eine --X R.sub.1 Gruppe oder R.sub.2 ist; X ist eine direkte Bindung, ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelatom; R.sub.1 ist Wasserstoff, C.sub.1 - Alkyl C.sub.4 oder eine Phenyl- Gruppe, die nicht ersetzt oder durch einen Substituenten ersetzt ist, der von der Gruppe vorgewählt wird, die aus Chlor- besteht, bromo, C.sub.1 - Alkyl C.sub.4 und C.sub.1 - C.sub.4 - alkyloxy; R.sub.2 ist Wasserstoff oder C.sub.1 - Alkyl C.sub.4; und R.sub.3 ist gradkettiges oder ausgebrittenes C.sub.1 - Alkyl C.sub.12, das nicht ersetzt oder durch eins oder mehr als ein Halogenatom ersetzt ist; da lichtempfindlich, fügen Sie Generator in einem chemisch verstärkten Photoresist, der im alkalischen Milieu developable ist und der für Strahlung an einer Wellenlänge von 340 bis 390 Nanometern empfindlich ist hinzu und bestand entsprechend die positiven und negativen Photoresists für den obenerwähnten Wellenlängenbereich.
