A method of employing organic vapor phase deposition to fabricate a
polycrystalline organic thin film is described. By employing organic vapor
phase deposition at moderate deposition chamber pressures and substrate
temperatures, a polycrystalline organic thin film results having
significantly larger purity and grain size than what is achievable by
vacuum thermal evaporation. These polycrystalline organic thin films may
be employed in a variety of applications, including, for example, organic
light emitting devices, photovoltaic cells, photodetectors, lasers, and
thin film transistors.
Um método de empregar o deposition da fase do vapor orgânico para fabricar uma película fina orgânica polycrystalline é descrito. Empregando o vapor orgânico phase o deposition em pressões da câmara do deposition e em temperaturas moderadas da carcaça, resultados orgânicos polycrystalline de uma película fina que têm o tamanho significativamente maior do purity e de grão do que o que é achievable pela evaporação do thermal do vácuo. Estas películas finas orgânicas polycrystalline podem ser empregadas em uma variedade das aplicações, including, para o exemplo, luz orgânica que emitem-se dispositivos, pilhas photovoltaic, photodetectors, lasers, e transistor da película fina.
