A chemically amplifying type positive resist composition suitable for use
in the lithography utilizing an ArF or KrF excimer laser and excellent in
the shape of profile is provided, which comprises a resin which has an
alkali-soluble group protected by 2-alkyl-2-adamantyl group or
1-adamantyl-1-alkylalkyl group, and which, per se, is insoluble or
slightly soluble in alkali but becomes soluble in alkali by the action of
an acid; and a sulfonium salt acid generating agent represented by the
following formula (I):
##STR1##
wherein Q.sup.1, Q.sup.2 and Q.sup.3 independently represent hydrogen,
hydroxyl, alkyl having 1 to 6 carbon atoms or alkoxy having 1 to 6 carbon
atoms; and Q.sup.4 represents perfluoroalkyl which may have a cyclic
structure.
Ένα χημικά ενισχύοντας θετικό τύπων αντιστέκεται στη σύνθεση κατάλληλη για τη χρήση στη λιθογραφία που χρησιμοποιεί excimer ArF ή KrF το λέιζερ και άριστος με μορφή του σχεδιαγράμματος παρέχεται, το οποίο περιλαμβάνει μια ρητίνη που έχει μια διαλυτοη σε αλκαλικό διάλυμα ομάδα που προστατεύεται από την ομάδα 2-αλκυλικός-2- adamantyl ή την ομάδα 1-αδαμαντυλ-1- alkylalkyl, και που, αυτό καθ' εαυτό, είναι αδιάλυτες ή ελαφρώς διαλυτές στο αλκάλιο αλλά γίνονται διαλυτές στο αλκάλιο από τη δράση ενός οξέος και ένας αλατισμένος όξινος παραγωγικός πράκτορας sulfonium που αντιπροσωπεύεται από τον ακόλουθο τύπο (I): ## STR1 ## όπου Q.sup.1, Q.sup.2 και Q.sup.3 αντιπροσωπεύουν ανεξάρτητα το υδρογόνο, υδροξύλιο, αλκύλιο που έχει 1 έως 6 άτομα άνθρακα ή αλκόξινος έχοντας 1 έως 6 άτομα άνθρακα και Q.sup.4 αντιπροσωπεύει το perfluoroalkyl που μπορεί να έχει μια κυκλική δομή.
