A lithographic projection apparatus is provided with an optical system
built into the wafer table for producing an image of a wafer mark that is
provided on the back side of the wafer. The image is located at the plane
of the front side of the wafer and can be viewed by an alignment system
from the front side of the wafer. Simultaneous alignment between marks on
the back and front of the wafer and a mask can be performed using a
pre-existing alignment system
Ein lithographischer Projektion Apparat wird mit einem optischen System versehen, das in die Oblatetabelle für das Produzieren eines Bildes einer Oblatemarkierung errichtet wird, die auf der Rückseite der Oblate zur Verfügung gestellt wird. Das Bild befindet sich an der Fläche des Vorderseite der Oblate und kann durch ein Ausrichtung System vom Vorderseite der Oblate angesehen werden. Simultane Ausrichtung zwischen Markierungen auf dem rückseitigen und das vorder von der Oblate und von einer Schablone kann mit einem pre-existing Ausrichtung System durchgeführt werden
