Disclosed is a method for manufacturing a tapered optical waveguide through
which waveguides of different sizes are connected with each other
optically. In the method, a photo-resist pattern having an inclined
profile is formed on the core layer by means of a gray-scale mask, then
the profile of the tapered waveguide can be precisely controlled by
controlling the profile of the photo-resist pattern and the
etching-selection ratio between the photo-resist and the core layer.
Révélée est une méthode pour fabriquer un guide d'ondes optique conique par lequel des guides d'ondes de différentes tailles sont reliés à l'un l'autre optiquement. Dans la méthode, un modèle de vernis photosensible ayant un profil incliné est formé sur la couche de noyau au moyen d'un masque de gray-scale, alors le profil du guide d'ondes conique peut être avec précision commandé en commandant le profil du modèle de vernis photosensible et le rapport gravure à l'eau-forte-choix au vernis photosensible de la couche de noyau.
