The disclosure relates to a process for forming a deposit on the surface of
a metallic or conductive surface. The process employs an electroless
process to deposit a silicate containing coating or film upon a metallic
or conductive surface.
De onthulling heeft op een proces om een storting op de oppervlakte van een metaal of geleidende oppervlakte betrekking te vormen. Het proces wendt een electroless proces aan om een silicaat te deponeren dat deklaag of film bevat op een metaal of geleidende oppervlakte.
