The present invention provides a microneedle incorporating a base that is
broad relative to a height of the microneedle, to minimize breakage. The
microneedle further includes a fluid channel and a beveled non-coring tip.
Preferably arrays of such microneedles are fabricated utilizing
conventional semiconductor derived micro-scale fabrication techniques. A
dot pattern mask is formed on an upper surface of a silicon substrate,
with each orifice of the dot pattern mask corresponding to a desired
location of a microneedle. Orifices are formed that pass completely
through the substrate by etching. A nitride pattern mask is formed to mask
all areas in which a nitride layer is not desired. A nitride layer is then
deposited on the bottom of the silicon substrate, on the walls of the
orifice, and on the top of the silicon substrate around the periphery of
the orifice. The nitride layer around the periphery of the orifice is
offset somewhat, such that one side of the orifice has a larger nitride
layer. Anisotropic etching is used to remove a substantial portion of the
substrate, creating a plurality of angular, blunt, and generally
pyramidal-shaped microneedles. A subsequent removal of the nitride layer,
followed by an isotropic etching step, softens and rounds out the blunt
angular microneedles, providing generally conical-shaped microneedles. The
uneven nitride layer adjacent the orifice ensures that the microneedles
will include a beveled tip. Such microneedle arrays are preferably
incorporated into handheld diagnostic and drug delivery systems.
Присытствыющий вымысел обеспечивает microneedle включая основание обширно по отношению к высоте microneedle, для того чтобы уменьшить обрыв. Microneedle более дальнейшее вклюает жидкий канал и beveled нон-vyreza4 сердцевина из конец. Предпочтительн блоки таких microneedles изготовлены используя обычным выведенные полупроводником методы изготовления микромасштаба. Маска картины многоточия сформирована на верхней поверхности субстрата кремния, с каждым отверстием маски картины многоточия соответствуя к заданному положению microneedle. Отверстия сформированы проходят вполне через субстрат вытравливанием. Маска картины нитрида сформирована для того чтобы замаскировать все области в не пожелан слой нитрида. Слой нитрида после этого депозирован на дне субстрата кремния, на стенах отверстия, и на верхней части субстрата кремния вокруг периферии отверстия. Слой нитрида вокруг периферии отверстия возмещен несколько, такие что одна сторона отверстия имеет более большой слой нитрида. Неравносвойственное вытравливание использовано для того чтобы извлечь существенную часть субстрата, создавая множественность угловых, тупых, и вообще, котор пырамидал-formiruht microneedles. Затем удаление слоя нитрида, последованное за равносвойственным шагом вытравливания, размягчает и округляет из тупых угловых microneedles, обеспечивая вообще conical-shaped microneedles. Неровный слой нитрида смежный отверстие обеспечивает что microneedles включат beveled конец. Такие блоки microneedle предпочтительн включены в средство доставки diagnostic и снадобья handheld.
