Multi-trench region for accumulation of photo-generated charge in a CMOS imager

   
   

A multiple-trench photosensor for use in a CMOS imager having an improved charge capacity. The multi-trench photosensor may be either a photogate or photodiode structure. The multi-trench photosensor provides the photosensitive element With an increased surface area compared to a flat photosensor occupying a comparable area on a substrate. The multi-trench photosensor also exhibits a higher charge capacity, improved dynamic range, and a better signal-to-noise ratio. Also disclosed are processes for forming the multi-trench photosensor.

Veelvoudig-geulphotosensor voor gebruik in CMOS imager die een betere lastencapaciteit heeft. Multi-geulphotosensor kan of een photogate of fotodiodestructuur zijn. Multi-geulphotosensor voorziet het fotogevoelige element van een verhoogde oppervlakte die in vergelijking met vlakke photosensor een vergelijkbaar gebied op een substraat bezet. Multi-geulphotosensor stelt ook een hogere lastencapaciteit, een betere dynamische waaier, en een betere signal-to-noise verhouding tentoon. Ook onthuld worden de processen om multi-geulphotosensor te vormen.

 
Web www.patentalert.com

< Preparation coping for creating an accurate permanent post to support a final prosthesis and method for creating the same

< Coating for use with medical devices and method of making same

> CMOS imager with a self-aligned buried contact

> Method for immediately placing a non-occlusive dental implant prosthesis

~ 00121