The invention relates to an High Repetition Rate UV Excimer Laser which
includes a source of a laser beam and one or more windows which include
magnesium fluoride. Another aspect of the invention relates to an excimer
laser which includes a source of a laser beam, one or more windows which
include magnesium fluoride and a source for annealing the one or more
windows. Another aspect of the invention relates to a method of producing
a predetermined narrow width laser beam.
La invención se relaciona con un laser UV de Excimer de la alta tarifa de la repetición que incluya una fuente de un rayo laser y de unas o más ventanas que incluyen el fluoruro del magnesio. Otro aspecto de la invención se relaciona con un laser del excimer que incluya una fuente de un rayo laser, unas o más ventanas que incluyan el fluoruro del magnesio y una fuente para recocer las unas o más ventanas. Otro aspecto de la invención se relaciona con un método de producir un rayo laser estrecho predeterminado de la anchura.
