Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby

   
   

A lithographic projection apparatus includes an active reflector in a radiation system providing a projection beam of radiation and/or in a projection system. The active reflector includes a body member, a reflective multilayer and at least one actuator controllable to adjust the surface figure of the reflecting multilayer, wherein the actuator exerts a substantial force component in a direction parallel to the surface figure of said reflective multilayer. The actuator may be operative to apply torques to said reflector.

Um instrumento lithographic da projeção inclui um refletor ativo em um sistema da radiação que fornece um feixe da projeção da radiação e/ou em um sistema da projeção. O refletor ativo inclui um membro do corpo, um multilayer reflexivo e ao menos um atuador controllable para ajustar a figura de superfície de refletir multilayer, wherein o atuador exerce um componente substancial da força em um sentido paralelo à figura de superfície de multilayer reflexivo dito. O atuador pode ser operativo aplicar torques a refletor dito.

 
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< Method of controlling line edge roughness in resist films

< Micro-actuator transducer stack inertia cancellation control

> Multiple reflectivity band reflector with non-uniform profile and laser system employing same for laser wavelength monitoring

> Interferometer system and method of manufacturing projection optical system using same

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