The present invention provides a chemical amplification type positive
resist composition comprising
(A) resin having a phenol skeleton wherein the phenol skeleton has
protective group which can be dissociated by the action of an acid, the
phenol skeleton itself is insoluble or poorly soluble in an alkali aqueous
solution and the phenol skeleton becomes soluble in an alkali aqueous
solution after dissociation of the protective group,
(B) resin obtained by protecting a part of hydroxyl group in
poly(p-hydroxystyrene) with pivaloyl group and
(C) an acid generator.
La presente invenzione fornisce un tipo chimico positive di amplificazione resiste alla composizione che contiene (A) la resina che ha uno scheletro del fenolo in cui lo scheletro del fenolo ha gruppo protettivo che può essere dissociato tramite l'azione di un acido, lo scheletro in se del fenolo è insolubile o male solubile in una soluzione acquosa dell'alcali e nello scheletro del fenolo diventa solubile in una soluzione acquosa dell'alcali dopo dissociazione del gruppo protettivo, (B) la resina ottenuta proteggendo una parte del gruppo dell'idrossile nel poly(p-hydroxystyrene) con il gruppo di pivaloyl e (C) un generatore acido.
