The invention provides a method of making a <194 nm wavelength calcium
fluoride crystal optical lithography element for transmitting wavelengths
less than about 194 nm along an optical axis with minimal birefringence by
providing an optical element optical calcium fluoride crystal with an
input face {100} crystal plane and forming the input face {100} crystal
plane into an optical lithography element surface of an optical
lithography element having an optical axis, with the optical axis aligned
with a <100> crystal direction of the optical calcium fluoride
crystal. In a preferred embodiment, the below 194 nm transmitting optical
element is a <100>oriented calcium fluoride lens. In a preferred
embodiment, the below 194 nm transmitting optical element is a <100>
oriented calcium fluoride beam splitter.
De uitvinding verstrekt een methode van een makende kristalrichting van het optische kristal van het calciumfluoride. In een aangewezen belichaming, is onderstaande 194 NM die optisch element overbrengen een georiënteerde lens van het calciumfluoride. In een aangewezen belichaming, is onderstaande 194 NM die optisch element overbrengen een georiënteerde de straalsplitser van het calciumfluoride.
