Provided are methods and systems for controlling the concentration of a
component in a composition, and semiconductor processing methods and
systems. One exemplary method of controlling the concentration of a
component in a composition involves: providing a composition which has a
liquid portion, wherein the liquid portion contains a component to be
monitored; performing an absorption spectroscopy measurement on a sample
of the composition; and controlling the concentration of the component in
the composition based on the absorption spectroscopy measurement using a
feedback control loop. The invention allows for controlling the
concentration of a component in a composition, for example, a corrosion
inhibitor in a chemical planarization (CMP) chemical, as well as in pre-
and post-CMP storage/treatment chemicals, and can provide real time,
accurate process control in a simple and robust manner.
Υπό τον όρο ότι είναι μέθοδοι και συστήματα για τη συγκέντρωση ενός συστατικού σε μια σύνθεση, και μέθοδοι επεξεργασίας ημιαγωγών και συστήματα. Μια υποδειγματική μέθοδος τη συγκέντρωση ενός συστατικού σε μια σύνθεση περιλαμβάνει: παρέχοντας μια σύνθεση που έχει μια υγρή μερίδα, όπου η υγρή μερίδα περιέχει ένα συστατικό που ελέγχεται εκτέλεση μιας μέτρησης φασματοσκοπίας απορρόφησης σε ένα δείγμα της σύνθεσης και ελέγχοντας τη συγκέντρωση του συστατικού στη σύνθεση βασισμένη στη μέτρηση φασματοσκοπίας απορρόφησης που χρησιμοποιεί έναν βρόχο ελέγχου ανατροφοδότησης. Η εφεύρεση επιτρέπει τον έλεγχο της συγκέντρωσης ενός συστατικού σε μια σύνθεση, παραδείγματος χάριν, ένας ανασταλτικός παράγοντας διάβρωσης σε μια χημική χημική ουσία planarization (CMP), καθώς επίσης και μέσα προ - και αποθήκευσης μετα- cmp/epexergasj'as χημικές ουσίες, και μπορεί να παρέχει τον πραγματικό χρόνο, ακριβής έλεγχος διεργασίας κατά τρόπο απλό και γερό.
