A lithography system and method for calculating an optimal discrete time
trajectory for a movable device is described. A trajectory planner of the
lithography system calculates an optimal discrete time trajectory subject
to maximum velocity and maximum acceleration constraints. The trajectory
planner begins by calculating a continuous time, three-segment trajectory
for a reticle stage, a wafer stage or a framing blade, including a first
phase for acceleration at the maximum acceleration to the maximum
velocity, a second phase for travel at the maximum velocity and a third
phase for deceleration at the negative maximum acceleration to a final
velocity. Next, the trajectory planner converts continuous time,
three-segment trajectory to a discrete time trajectory. The time of
execution of the resulting trajectory is at most three quanta greater than
the time of execution of the continuous time trajectory. One advantage of
the system is the reduction of scanning times of a lithography system.
This advantage increases throughput and reduces manufacturing costs for a
lithography system.
Een een lithografiesysteem en methode om een optimale afzonderlijke tijdbaan voor worden een beweegbaar apparaat te berekenen beschreven. Een baanontwerper van het lithografiesysteem berekent een optimale afzonderlijke tijdbaan onderworpen aan maximumsnelheid en maximumversnellingsbeperkingen. De baanontwerper begint door een ononderbroken tijd, drie-segment baan voor een dradenkruisstadium, een wafeltjestadium of een ontwerpend blad, met inbegrip van een eerste fase voor versnelling bij de maximumversnelling aan de maximumsnelheid, een tweede fase voor reis bij de maximumsnelheid en een derde fase voor vertraging te berekenen bij de negatieve maximumversnelling aan een definitieve snelheid. Daarna, zet de baanontwerper ononderbroken tijd, drie-segment baan aan een afzonderlijke tijdbaan om. De tijd van uitvoering van de resulterende baan is hoogstens de meeste drie quanta groter dan de tijd van uitvoering van de ononderbroken tijdbaan. Één voordeel van het systeem is de vermindering van aftastentijden van een lithografiesysteem. Dit voordeel verhoogt productie en drukt productiekosten voor een lithografiesysteem.
