To provide a light emitting device having a highly definite pixel portion.
An anode (102) and a bank (104) orthogonal to the anode (102) are formed
on an insulator (101). A portion of the bank (104) (controlling bank 104b)
is made of a metal film. By applying a voltage thereto, an electric field
is formed, and a track of an EL material that is charged with an electric
charge can be controlled. Thus, it becomes possible to control a film
deposition position of an EL layer with precision by utilizing the above
method.
Per fornire un dispositivo d'emissione chiaro che ha una parte altamente definita del pixel. Un anodo (102) e una banca (104) ortogonale all'anodo (102) sono formati su un isolante (101). Una parte della banca (104) (banca di controllo 104b) è fatta di una pellicola del metallo. Applicando una tensione a ciò, un campo elettrico è formato e una pista di un materiale di EL che è caricato di una carica elettrica può essere controllata. Quindi, diventa possibile controllare una posizione di deposito della pellicola di uno strato di EL con precisione utilizzando il suddetto metodo.
