A first and a second longitudinal bias-applying films are formed via a
first mask at both sides of a magnetoresistive effective element film so
that the difference in surface level between the magnetoresistive
effective element film and the first and the second longitudinal
bias-applying films is set within .+-.20 nm. Then, a first and a second
electrode films are formed so as to cover edge portions of the
magnetoresistive effective element film and the first and the second
longitudinal bias-applying films.
Um primeiro e o segundo películas polarização-aplicando-se longitudinais são dados forma através de uma primeira máscara em ambos os lados de uma película eficaz magnetoresistive do elemento de modo que a diferença no nível de superfície entre a película eficaz magnetoresistive do elemento e a primeira e nas segunda películas polarização-se aplicando longitudinais seja ajustada dentro do +-.20 nm. Então, umas primeiras e películas segundas de um elétrodo são dadas forma para cobrir parcelas da borda da película eficaz magnetoresistive do elemento e das primeiras e segundas películas polarização-aplicando-se longitudinais.
