A semiconductor processing station which utilizes a processing head and
processing base which are complementary to enclose a processing chamber.
The processing head shown has a rotor with two portions both of which
rotate. The rotor has axial movable portions which include a piece holder.
The piece holder supports a wafer or other semiconductor piece being
processed. The piece holder can be axially extended and retracted relative
to a thin membrane which acts as a cover to prevent chemicals from
reaching the back side of the wafer during processing.
Un semiconduttore che procede stazione che utilizza un'elaborazione capa e che procede base che sono complementari accludere un alloggiamento d'elaborazione. La testa d'elaborazione indicata ha un rotore con due parti entrambi cui ruotano. Il rotore ha parti mobili assiali che includono un supporto di parte. Il supporto di parte sostiene una cialda o l'altra parte a semiconduttore che è proceduta. Il supporto di parte può estendersi e ritratto lungo un asse riguardante una membrana sottile che funge da copertura per impedire i prodotti chimici raggiungere il lato posteriore della cialda durante l'elaborazione.
