An improved objective lens for a charged particle beam device is
constituted by, among other things, a magnetic lens that creates a first
magnetic field for focussing the charged particle beam onto the specimen.
Furthermore, a deflector is integrated into the magnetic lens by providing
at least one additional coil arrangement that creates a second magnetic
field used to deflect the charged particle beam. Thereby, the second
magnetic field is guided through at least one of the pole pieces of the
magnetic lens. The present invention also provides an improved column for
a charged particle beam device including the improved objective lens.
Улучшенный объективный объектив для порученного приспособления луча частицы образован мимо, между прочим, магнитный объектив который создает первое магнитное поле для фокусировать порученный луч частицы на образец. Furthermore, дефлектор интегрирован в магнитный объектив путем предусмотрение по крайней мере одного дополнительного расположения катушки которое создает второе магнитное поле используемое для того чтобы отклонить порученный луч частицы. Таким образом, второе магнитное поле направлено через по крайней мере одну из частей полюса магнитного объектива. Присытствыющий вымысел также обеспечивает улучшенную колонку для порученного приспособления луча частицы включая улучшенный объективный объектив.
