A guided stage mechanism suitable for supporting a reticle in a
photolithography machine includes a stage movable in the X-Y directions on
a base. Laterally surrounding the stage is a rectangular window frame
guide which is driven in the X-axis direction on two fixed guides by means
of motor coils on the window frame guide co-operating with magnetic tracks
fixed on the base. The stage is driven inside the window frame guide in
the Y-axis direction by motor coils located on the stage co-operating with
magnetic tracks located on the window frame guide. Forces from the drive
motors of both the window frame guide and the stage are transmitted
through the center of gravity of the stage, thereby eliminating unwanted
moments of inertia. Additionally, reaction forces caused by the drive
motors are isolated from the projection lens and the alignment portions of
the photolithography machine. This isolation is accomplished by providing
a mechanical support for the stage independent of the support for its
window frame guide. The window frame guide is a hinged structure capable
of a slight yawing (rotational) motion due to hinged flexures which
connect the window frame guide members.
Eine geführte Stadium Einheit, die für das Stützen eines Reticle in einer photolithographiemaschine verwendbar ist, schließt ein Stadium Bewegliches in den X-Y Richtungen auf eine Unterseite mit ein. Das Stadium seitlich zu umgeben ist ein rechteckiger Fensterrahmenführer der in die X-axisrichtung auf zwei reparierte Führer mittels der Bewegungsspulen auf dem Fensterrahmenführer gefahren wird, der mit den magnetischen Schienen kooperiert, die auf der Unterseite geregelt werden. Das Stadium wird innerhalb des Fensterrahmenführers in der Y-axisrichtung durch die Bewegungsspulen gefahren, die auf dem Stadium kooperierend mit den magnetischen Schienen gelegen sind, die auf dem Fensterrahmenführer gelegen sind. Kräfte von den Antriebsmotoren des Fensterrahmenführers und des Stadiums werden durch den Schwerpunkt des Stadiums übertragen, dadurch beseitigt man unerwünschte Momente der Schwungkraft. Zusätzlich werden die Reaktion Kräfte, die durch die Antriebsmotoren verursacht werden, vom Projektion Objektiv und von den Ausrichtung Teilen der photolithographiemaschine lokalisiert. Diese Lokalisierung wird vollendet, indem man eine mechanische Unterstützung für das Stadium Unabhängige der Unterstützung für seinen Fensterrahmenführer gibt. Der Fensterrahmenführer ist eine eingehängte Struktur, die zu einer geringfügigen yawing fähig ist (Rotations) Bewegung wegen der eingehängten Biegungen, die die Fensterrahmen-Führermitglieder anschließen.
