Photoresist compositions

   
   

Resists of the invention contain an added acid component which has been found can significantly enhance stability during storage between manufacture and use. Preferred resists of the invention contain an ester-based solvent such as ethyl lactate or propylene glycol methyl ether acetate in addition to the acid component.

Verzet tegenzich van de uitvinding bevatten een toegevoegde zure component die kan stabiliteit tijdens opslag tussen vervaardiging en gebruik beduidend verbeteren is gevonden. De voorkeur gehad verzet tegenzich van de uitvinding bevatten een op ester-gebaseerd oplosmiddel zoals ethyllactaat of methyl de etheracetate van de propyleenglycol naast de zure component.

 
Web www.patentalert.com

< Cutting blade

< Homologous recombination antibody expression system for murine cells

> Multiple layer film of a new non-PVC material

> Retardation film and process for producing the same

~ 00115