After subjected to a developing process, a rinsing process and a replacing
process in this order in a developing unit 10A, 10B, a substrate W wet
with an anti-drying solution is wet-transported to a supercritical drying
unit 20 by a primary transport robot 30. The supercritical drying unit 20
performs a high-pressure drying process (supercritical drying process) in
a dedicated manner. Accordingly, by virtue of the presence of the
anti-drying solution, the substrate W is effectively prevented from
becoming air-dry during the transportation of the substrate W.
Na onderworpen aan een ontwikkelend proces, een het spoelen proces en een vervangend proces in deze orde in een ontwikkelende eenheid 10A, 10B, wordt een substraat W nat met een anti-droogt oplossing nat-vervoerd aan een overkritische drogende eenheid 20 door een primaire vervoerrobot 30. Overkritische drogende eenheid 20 voert een hoge druk het drogen proces (overkritisch het drogen proces) op een specifieke manier uit. Dienovereenkomstig, krachtens de aanwezigheid van de anti-droogt oplossing, wordt het substraat W effectief verhinderd tijdens het vervoer van het substraat W luchtdroog te worden.
