Maintenance method and system for plasma processing apparatus etching and apparatus

   
   

For maintenance after wet cleaning of a plasma processing apparatus which processes a specimen in a vacuum processing chamber by using a plasma, when restoration processing after the wet cleaning of members configuring the vacuum processing chamber is performed with the vacuum processing chamber opened to the atmosphere, it is automatically or semiautomatically judged whether the restoration processing is appropriate or not according to a predetermined optimum sequence inherent in the apparatus, and the next processing is started automatically or semiautomatically according to the results.

Pour l'entretien après que le nettoyage humide d'un plasma traitant l'appareil qui traite un spécimen dans un vide traitant la chambre en employant un plasma, quand la restauration traitant après le nettoyage humide des membres configurant le vide traitant la chambre est exécutée avec le vide traitant la chambre ouverte à l'atmosphère, il automatiquement ou semi-automatiquement soit jugé, que le traitement de restauration soit approprié ou pas selon un ordre optimum prédéterminé inhérent dans l'appareil, et le prochain traitement est commencé automatiquement ou semi-automatiquement selon les résultats.

 
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