A spin valve sensor includes an antiparallel (AP) pinned layer structure
which is self-pinned without the assistance of an antiferromagnetic (AFM)
pinning layer. A free layer of the spin valve sensor has first and second
wing portions which extend laterally beyond a track width of the spin
valve sensor and are exchange coupled to first and second AFM pinning
layers. Magnetic moments of the wing portions of the free layer are pinned
parallel to the ABS and parallel to major planes of the layers of the
sensor for magnetically stabilizing the central portion of the free layer
which is located within the track width. The spin valve sensor has a
central portion that extends between the first and second AFM layers.
First and second lead layers overlay the first and second AFM layers and
further overlay first and second portions of the central portion so that a
distance between the first and second lead layers defines a track width
that is less than a distance between the first and second AFM layers. The
spin valve sensor has a cap layer structure that has a full thickness
portion which is located between first and second reduced thickness
portions and the first and second lead layers engage the cap layer
structure within the first and second reduced thickness portions.
Une sonde de valve de rotation inclut une structure goupillée de couche de l'antiparallel (AP) qui est art de l'auto-portrait-pinned sans aide d'un antiferromagnetic (AFM) goupillant la couche. Une couche libre de la sonde de valve de rotation a d'abord et les deuxièmes parties d'aile qui se prolongent latéralement au delà d'une largeur de voie de la sonde de valve de rotation et sont échange couplé à d'abord et deuxième AFM goupillant des couches. Les moments magnétiques des parties d'aile de la couche libre sont parallèles goupillé à l'ABS et parallèle aux plans principaux des couches de la sonde pour stabiliser par magnétisme la partie centrale de la couche libre qui est située dans la largeur de voie. La sonde de valve de rotation a une partie centrale qui se prolonge entre les premières et deuxièmes couches d'AFM. D'abord et en second lieu le fil pose le recouvrement premières et deuxièmes couches d'AFM et davantage de recouvrement d'abord et deuxièmes parties de la partie centrale de sorte qu'une distance entre les premières et deuxièmes couches de fil définisse une largeur de voie qui est moins qu'une distance entre les premières et deuxièmes couches d'AFM. La sonde de valve de rotation a une structure de couche de chapeau qui a une pleine partie d'épaisseur qui est localisée entre d'abord et les parties en second lieu réduites d'épaisseur et les premières et deuxièmes couches de fil engagent la structure de couche de chapeau dans les premières et deuxièmes parties réduites d'épaisseur.
