Mask for differential curing and process for making same

   
   

A mask for use in a process for curing a photosensitive material. The mask comprises a structure having a top side and a bottom side opposite to the top side, and a pattern of transparent regions and opaque regions, wherein the opaque regions comprise at least first opaque regions having a first opacity and second opaque regions having a second opacity different from the first opacity. The opaque regions can comprise a substantially continuous pattern, a substantially semi-continuous pattern, a pattern formed by a plurality of discrete areas, or any combination thereof. The opaque regions can comprise a gradient opacity that gradually changes in at least one direction. The mask can have a three-dimensional topography comprising, for example, a pattern of protrusions extending from the bottom side of the mask and/or the top side of the mask. The protrusions can form a substantially continuous pattern, a substantially semi-continuous pattern, a discrete pattern, or any combination thereof. The pattern of protrusions can correlate with the pattern of transparent and opaque regions to form a combined non-random and repeating pattern. The mask can comprise a composite structure, wherein the pattern of transparent and opaque regions can be independent and separable from the pattern of protrusions. A process for making the mask can comprise providing a thin transparent material of substantially uniform thickness, forming a pattern of opaque regions on the material according to a first predetermined pattern, and embossing the material according to a second predetermined pattern.

Uma máscara para o uso em um processo para curar um material photosensitive. A máscara compreende uma estrutura que têm um lado superior e um lado inferior opostos ao lado superior, e um teste padrão de regiões transparentes e de regiões opacas, wherein as regiões opacas compreendem ao menos as primeiras regiões opacas que têm uma primeira opacidade e as regiões em segundo opacas que têm uma segunda opacidade diferente da primeira opacidade. As regiões opacas podem compreender um teste padrão substancialmente contínuo, um teste padrão substancialmente semi-continuous, um teste padrão dado forma por um plurality de áreas discretas, ou toda a combinação disso. As regiões opacas podem compreender uma opacidade do gradient que mude gradualmente ao menos em um sentido. A máscara pode ter um topography tridimensional compreender, para o exemplo, um teste padrão das saliências que estendem do lado inferior da máscara e/ou do lado superior da máscara. As saliências podem dar forma a um teste padrão substancialmente contínuo, a um teste padrão substancialmente semi-continuous, a um teste padrão discreto, ou a toda a combinação disso. O teste padrão das saliências pode correlacionar com o teste padrão das regiões transparentes e opacas para dar forma a um teste padrão non-aleatório e repetindo combinado. A máscara pode compreender uma estrutura composta, wherein o teste padrão de regiões transparentes e opacas pode ser independente e separável do teste padrão das saliências. Um processo para fazer a máscara pode compreender fornecer um material transparente fino da espessura substancialmente uniforme, dando forma a um teste padrão de regiões opacas no material de acordo com um primeiro predeterminou o teste padrão, e gravando o material de acordo com umas segundas predeterminou o teste padrão.

 
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