Appearance inspection method and appearance inspection apparatus having high inspection processing speed

   
   

An appearance inspection method, includes (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), and (h). The (a) includes providing an image data in which an inspected sample is photographed. The (b) includes detecting a brightness of each of a plurality of image units included in the image data based on the image data. The (c) includes detecting the number of the image units being identical with each other in the brightness for each of the brightness. The (d) includes detecting, as a measured maximum number, the number that is maximum of the detected numbers as a result of the (c). The (e) includes computing the measured maximum number to determine a set maximum number. The (f) includes determining a threshold level of the brightness based on the set maximum number. The (g) includes converting the image data into a binary pattern based on the threshold level. The (h) includes detecting a defect of the inspected sample based on the binary pattern.

Un método de la inspección del aspecto, incluye (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), y (h). El (a) incluye el abastecimiento de los datos de la imagen en las cuales se fotografía una muestra examinada. El (b) incluye la detección de un brillo de cada uno de una pluralidad de unidades de la imagen incluidas en los datos de la imagen basados en los datos de la imagen. El (c) incluye la detección del número de las unidades de la imagen que son idénticas con uno a en el brillo para cada uno del brillo. El (d) incluye la detección, como número máximo medido, del número que es máximo de los números detectados como resultado del (c). El (e) incluye computar el número máximo medido para determinar un número máximo del sistema. El (f) incluye la determinación de un límite de alarma del brillo basado en el número máximo del sistema. El (g) incluye convertir los datos de la imagen en un patrón binario basado en el límite de alarma. El (h) incluye la detección de un defecto de la muestra examinada basada en el patrón binario.

 
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