A pattern inspecting apparatus includes an illuminating optical system for
illuminating a pattern in a region subject to inspection on a workpiece
from a substantially perpendicular direction; a detecting optical system
for detecting regularly reflected light or transmitted light from the
pattern illuminated by the illuminating optical system, the detecting
optical system having a numerical aperture which does not allow the
structure of the pattern in the region subject to inspection to be
optically resolved; a wavelength-varying system for selectively rendering
variable the wavelength of the light detected by the detecting optical
system; and a measuring system for measuring the structure of the pattern
on the basis of light intensity information of the detected light in
correspondence with the wavelength varied by the wavelength-varying
system.
Een patroon het inspecteren apparaat omvat een verlichtend optisch systeem om een patroon te verlichten in een gebied onderworpen aan inspectie op een werkstuk van een wezenlijk loodrechte richting; een het ontdekken optisch systeem om regelmatig weerspiegeld licht of overgebracht licht van het patroon te ontdekken dat door het verlichtende optische systeem, het het ontdekken optische systeem wordt verlicht die een numerieke opening hebben die niet de structuur van het patroon in het gebied onderworpen aan inspectie om optisch toelaat worden opgelost; een golflengte-variërend systeem om de golflengte van het licht veranderlijk selectief te maken dat door het het ontdekken optische systeem wordt ontdekt; en een metend systeem om de structuur van het patroon op basis van lichtintensiteitinformatie van het ontdekte licht in correspondentie met de golflengte te meten die door het golflengte-variërend systeem wordt gevarieerd.
