Band gap plasma mass filter

   
   

A device and method for selectively establishing predetermined orbits, relative to an axis, for ions of a first mass/charge ratio (m.sub.1), requires crossing an electric field with a substantially uniform magnetic field (E.times.B). The magnetic field is oriented along the axis and the electric field has both a d.c. voltage component (.gradient..PHI..sub.0) and an a.c. voltage component (.gradient..PHI..sub.1). In operation, voltage .PHI..sub.0 is fixed to place the ions m.sub.1 on confined orbits around the axis when .PHI..sub.1 is zero. On the other hand, when .PHI..sub.1 is tuned to a predetermined value, the ions m.sub.1 are ejected away from the axis. With E.times.B established in a chamber, the ions m.sub.1 will pass through the chamber when on confined orbits (.PHI..sub.1 =0), and they will be ejected into the wall of the chamber when on unconfined orbits (.PHI..sub.1 =predetermined value).

Um dispositivo e um método para seletivamente estabelecer órbitas predeterminadas, relativo a uma linha central, para íons de uma primeira relação de mass/charge (m.sub.1), requerem cruzar um campo elétrico com um campo magnético substancialmente uniforme (E.times.B). O campo magnético é orientado ao longo da linha central e o campo elétrico tem um componente da tensão de C.C. (gradient..PHI..sub.0) e um componente da tensão da A.A. (gradient..PHI..sub.1). Na operação, o PHI..sub.0 da tensão está reparado para colocar os íons m.sub.1 em órbitas confinadas em torno da linha central quando o PHI..sub.1 é zero. Na outra mão, quando o PHI..sub.1 é ajustado a um valor predeterminado, os íons m.sub.1 são ejetados afastado da linha central. Com o E.times.B estabelecido em uma câmara, os íons m.sub.1 passarão através da câmara quando em órbitas confinadas (PHI..sub.1 = 0), e neles será ejetado na parede da câmara quando unconfined sobre órbitas (PHI..sub.1 = valor predeterminado).

 
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