Apparatus and method for vaporizing solid precursor for CVD or atomic layer deposition

   
   

An apparatus and method for effectively and controllably vaporizing a solid precursor material is provided. In particular, the present invention provides an apparatus that includes a housing defining a sealed interior volume having an inlet for receiving a carrier gas, at least one surface within the housing for the application of a solid precursor, and a heating member for heating the solid precursor. The heating member can be located in the housing or in the surface within the housing. The surface can be a rod, baffle, mesh, or grating, and is preferably s-shaped or cone-shaped. Optionally, an outlet connects the housing to a reaction chamber. A method for vaporizing a solid precursor using the apparatus of the present invention is also provided.

Un aparato y un método para con eficacia y controllably vaporizando un material sólido del precursor se proporciona. En detalle, la actual invención proporciona a un aparato que incluya una cubierta que define un volumen interior sellado que tiene una entrada para recibir un gas portador, por lo menos una superficie dentro de la cubierta para el uso de un precursor sólido, y a miembro de la calefacción para calentar el precursor sólido. El miembro de la calefacción puede ser situado en la cubierta o en la superficie dentro de la cubierta. La superficie puede ser una barra, un bafle, un acoplamiento, o una grating, y es preferiblemente s-shaped o cónica. Opcionalmente, un enchufe conecta la cubierta con un compartimiento de la reacción. Un método para vaporizar un precursor sólido que usa el aparato de la actual invención también se proporciona.

 
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