To control the gap length in the near-field area with a high accuracy, the
exposure apparatus includes an exposure light source (11) to emit an
exposure laser light, a gap length controlling light source (16) to emit a
gap length controlling laser light different in wavelength from the
exposure laser light, a condenser lens (17a), collimator lens (17b) and a
dichroic mirror (12) to project the gap length controlling laser light to
a condenser lens (14) and solid immersion lens (SIL) (15), and a
photodetector (22) to detect the intensity of a return part of the gap
length controlling laser light from an outgoing surface (15b) of the SIL
(15). Thus in the exposure apparatus, the gap between the SIL (15) and
object (100) is controlled based on the detected return light intensity
from the photodetector (22).
Pour commander la longueur d'espace dans le secteur de proche-champ avec une exactitude élevée, l'appareillage d'exposition inclut une source lumineuse d'exposition (11) pour émettre une lumière de laser d'exposition, une longueur d'espace commandant la source lumineuse (16) pour émettre une longueur d'espace commandant la lumière de laser différente dans la longueur d'onde de la lumière de laser d'exposition, un condensateur (17a), l'objectif de collimateur (17b) et un miroir dichroïque (12) pour projeter la longueur d'espace commandant la lumière de laser à un condensateur (14) et à l'objectif plein d'immersion (SIL) (15), et un détecteur photoélectrique (22) pour détecter l'intensité d'une partie de retour de la longueur d'espace commandant la lumière de laser d'une surface sortante (15b) du SIL (15). Ainsi dans l'appareillage d'exposition, l'espace entre le SIL (15) et l'objet (100) est commandé basés sur l'intensité de la lumière de retour détectée du détecteur photoélectrique (22).
