A reaction chamber for processing a substrate wafer is described. The
reaction chamber has a wafer holder for receiving the substrate wafer, a
convection plate, which is disposed above the wafer holder, for
suppressing convective movements over the substrate wafer, and a gas
distributor plate which is disposed on a side face of the reaction
chamber, for distributing process or purge gases that flow in. A flow
plate is disposed on the gas distributor plate and extends substantially
in a plane that is perpendicular to the gas distributor plate. This allows
rapid and efficient purging of the reaction chamber.
Een reactiekamer voor de verwerking van een substraatwafeltje wordt beschreven. De reactiekamer heeft een wafeltjehouder voor het ontvangen van het substraatwafeltje, een convectieplaat, die boven de wafeltjehouder, voor het onderdrukken van convectiebewegingen over het substraatwafeltje, en een plaat wordt geschikt van de gasverdeler die op een zijgezicht van de reactiekamer, voor het verdelen van proces of zuiveringsgassen wordt geschikt die toevloeien. Een stroomplaat wordt geschikt op de plaat van de gasverdeler en uitbreidt zich wezenlijk in een vliegtuig dat aan de plaat van de gasverdeler loodrecht is. Dit staat het snelle en efficiënte zuiveren van de reactiekamer toe.
