A plasma processing apparatus includes a plurality of plasma processing
units. Each of the plasma processing units has a plasma excitation
electrode, a radiofrequency generator connected to the plasma excitation
electrode, and a matching circuit which matches the impedance between the
radiofrequency generator and the plasma processing unit. The absolute
value .vertline..DELTA.RA.vertline. of the difference .DELTA.RA between
the AC resistance RA.sub.0 at a time t.sub.0 and the AC resistance
RA.sub.1 at a later time t.sub.1 and the absolute value
.vertline..DELTA.RB.vertline. of the difference .DELTA.RB between the AC
resistance RB.sub.0 at the time t.sub.0 and the AC resistance RB.sub.1 at
the later time t.sub.1 are maintained at a value less than an upper limit.
Based on these values, whether or not the plasma processing apparatus
which is reassembled or used at a user site maintains a required level of
performance is evaluated.
Een apparaat van de plasmaverwerking omvat een meerderheid van plasmaverwerkingseenheidën. Elk van de plasmaverwerkingseenheidën heeft een elektrode van de plasmaopwinding, een radiofrequentiegenerator die aan de elektrode van de plasmaopwinding wordt aangesloten, en een passende kring die de impedantie tussen de radiofrequentiegenerator en de plasmaverwerkingseenheid aanpast. De absolute waarde vertline..DELTA.RA.vertline. van het verschil DELTA.RA tussen de AC weerstand RA.sub.0 in een tijd t.sub.0 en de AC weerstand RA.sub.1 bij een recentere tijd t.sub.1 en de absolute waarde vertline..DELTA.RB.vertline. van het verschil DELTA.RB tussen de AC weerstand RB.sub.0 in de tijd t.sub.0 en AC wordt de weerstand RB.sub.1 in de recentere tijd t.sub.1 gehandhaafd bij een waarde minder dan een hogere grens. Gebaseerd op deze waarden, al dan niet het apparaat van de plasmaverwerking dat opnieuw wordt gebracht samen of bij een gebruikersplaats gebruikt handhaaft wordt een vereist niveau van prestaties geëvalueerd.
