An excimer or molecular fluorine laser, such as a KrF- or ArF-laser, or a
molecular fluorine (F.sub.2) laser, particularly for photolithography
applications, has a gas mixture including a trace amount of a gas
additive. The concentration of the gas additive in the gas mixture is
optimized for improving energy stability and/or the overshoot control of
the laser output beam. The concentration is further determined and
adjusted at new fills and/or during laser operation based on its effect on
the output pulse energy in view of constraints and/or aging on the
discharge circuit and/or other components of the laser system. Attenuation
control is also provided for increasing the lifetimes of components of the
laser system by controlling the concentration of the gas additive over
time. A specific preferred concentration of xenon is more than 100 ppm for
improving the energy stability and/or overshoot control. The laser system
may be equipped with an internal gas supply unit including an internal
xenon gas supply, or a xenon generator for supplying xenon gas from
condensed matter xenon.
Excimer ή μοριακό ένα λέιζερ φθορίου, όπως ένα KrF - ή το αρΦ-λέιζερ, ή ένα μοριακό λέιζερ φθορίου (F.sub.2), ιδιαίτερα για τις εφαρμογές φωτολιθογραφίας, έχει ένα αέριο μίγμα συμπεριλαμβανομένου ενός ποσού ιχνών αέριο ενός πρόσθετου. Η συγκέντρωση αέριο του πρόσθετου στο αέριο μίγμα βελτιστοποιείται για τη βελτίωση της ενεργειακής σταθερότητας ή/και υπερανυψώστε τον έλεγχο της ακτίνας παραγωγής λέιζερ. Η συγκέντρωση καθορίζεται περαιτέρω και ρυθμίζεται στις νέες αφθονίες ή/και κατά τη διάρκεια της λειτουργίας λέιζερ βασισμένης στην επίδρασή της στην ενέργεια σφυγμού παραγωγής λαμβάνοντας υπόψη τους περιορισμούς ή/και τη γήρανση στο κύκλωμα απαλλαγής ή/και άλλα συστατικά του συστήματος λέιζερ. Ο έλεγχος μείωσης παρέχεται επίσης για την αύξηση της διάρκειας ζωής των συστατικών του συστήματος λέιζερ με τον έλεγχο της συγκέντρωσης αέριο του πρόσθετου κατά τη διάρκεια του χρόνου. Μια συγκεκριμένη προτιμημένη συγκέντρωση xenon είναι περισσότερα από 100 PPM για τη βελτίωση της ενεργειακής σταθερότητας ή/και υπερανυψώνει τον έλεγχο. Το σύστημα λέιζερ μπορεί να εξοπλιστεί με έναν εσωτερικό παρέχει αέριο τη μονάδα συμπεριλαμβανομένου εσωτερικό xenon παρέχει αέριο, ή μια xenon γεννήτρια για να παράσχει xenon αέριο από συμπυκνωμένο xenon θέματος.
