Ether monomers and polymers having multi-ring structures, and photosensitive polymers and resist compositions obtained from the same

   
   

Provided are alkenyl ether-based monomers having multi-ring structure, and photosensitive polymers and resist compositions obtained from the same. The photosensitive polymer includes a monomer unit represented by the following formula: ##STR1## wherein R.sub.4 and R.sub.5 are independently -H or -CH.sub.3, and R.sub.4 are independently -H, -OH or a alkyl group having 1-20 carbon atoms.

Op voorwaarde dat alkenyl op ether-gebaseerde monomeren multi-ringsstructuur hebben zijn zich, en fotogevoelige polymeren die en tegen samenstellingen verzetten die uit het zelfde worden verkregen. Het fotogevoelige polymeer omvat een monomeereenheid die door de volgende formule wordt vertegenwoordigd: ## STR1 ## waarin R.sub.4 en R.sub.5 onafhankelijk - H of - CH.sub.3 zijn, en R.sub.4 zijn onafhankelijk - H, - OH of een alkyl groep die 1-20 koolstofatomen heeft.

 
Web www.patentalert.com

< Photoresist monomers containing fluorine-substituted benzylcarboxylate and photoresist polymers comprising the same

< Porous gas permeable material for gas separation

> High solids dispersion for wide temperature, pressure sensitive adhesive applications

> Protecting film for polarizing plate and polarizing plate

~ 00106