An exposure apparatus for transferring a pattern on a reticle, through a
projection optical system, onto a wafer having a photosensitive material
coated thereon. The exposure apparatus includes a vacuum heat insulation
panel which is applied to at least a part of the structure of the exposure
apparatus so as to improve performance of temperature-control in the
exposure apparatus.
Un aparato de exposición para transferir un patrón en un retículo, a través de un sistema óptico de la proyección, sobre una oblea que tenía un material fotosensible cubrió sobre eso. El aparato de exposición incluye un panel del aislamiento de calor del vacío que se aplique por lo menos a una parte de la estructura del aparato de exposición para mejorar el funcionamiento del temperature-control en el aparato de exposición.
