An apparatus in combination with a load lock of an ion implanter comprises
a cover adjacent an isolation valve slot of the load lock. The cover
defines an aperture generally conforming to the size and shape of the
load, or wafer, within the load lock with sufficient clearance for a
robot arm to pick the wafer from within the load lock and transfer the
wafer to the implant chamber. The cover masks a portion of the slot so as
to reduce the opening between the load lock and the implant chamber of
the ion implanter. The smaller opening reduces the pressure burst from
the load lock to the implant chamber when the isolation valve and slot is
opened. By reducing the pressure burst, the cover can shorten the
recovery time for the implant chamber to reach operating pressure.
Um instrumento em combinação com um fechamento da carga de um implanter do íon compreende uma tampa adjacente um entalhe da válvula de isolação do fechamento da carga. A tampa define uma abertura que conformam-se geralmente ao tamanho e à forma da carga, ou o wafer, dentro do fechamento da carga com o afastamento suficiente para que um braço do robô escolha o wafer dentro do fechamento da carga e transfira o wafer à câmara do implant. A tampa mascara uma parcela do entalhe para reduzir a abertura entre o fechamento da carga e a câmara do implant do implanter do íon. A abertura menor reduz o estouro da pressão do fechamento da carga à câmara do implant quando a válvula e o entalhe de isolação são abertos. Reduzindo o estouro da pressão, a tampa pode encurtar o momento da recuperação para a câmara do implant de alcançar a pressão operando-se.
