An aspect of the present invention provides a system for evaluating mask
patterns, including a pattern image generator configured to generate a
pattern image of mask patterns to be formed on a mask, a defect generator
configured to receive defect data for particles and imaginarily generate
defects on the mask according to the defect data, a pattern-defect image
generator configured to generate a pattern-defect image of the mask by
combining the generated pattern image with the generated defects, a
pattern tester configured to determine whether or not each of the defects
in the pattern-defect image is allowable according to pattern rules, and a
ratio computation unit configured to compute at least one of an allowable
ratio and an un allowable ratio according to a determination result from
the pattern tester.
Een aspect van de onderhavige uitvinding verstrekt een systeem om maskerpatronen, met inbegrip van een generator te evalueren van het patroonbeeld die wordt om een patroonbeeld van maskerpatronen te produceren die op een masker, een tekortgenerator moeten worden gevormd die wordt gevormd gevormd om tekortgegevens te ontvangen voor deeltjes en imaginarily tekorten te produceren over het masker volgens de tekortgegevens, een patroon-tekort beeldgenerator die een patroon-tekort beeld van het masker te produceren door het geproduceerde patroonbeeld met de geproduceerde tekorten wordt te combineren, een patroonmeetapparaat dat wordt gevormd gevormd om te bepalen al dan niet elk van de tekorten in het patroon-tekort beeld volgens patroonregels toelaatbaar is, en een verhouding berekeningseenheid die wordt gevormd om minstens één van een toelaatbare verhouding gegevens te verwerken erns to be formed on a mask, a defect generator configured to receive defect data for particles and imaginarily generate defects on the mask according to the defect data, a pattern-defect image generator configured to generate a pattern-defect image of the mask by combining the generated pattern image with the generated defects, a pattern tester configured to determine whether or not each of the defects in the pattern-defect image is allowable according to pattern rules, and a ratio computation unit configured to compute at least one of an allowable ratio and an un allowable verhouding volgens een bepalingsresultaat van het patroonmeetapparaat.