A method for fabricating a module for at least partially intercepting a
light beam propagating along a beam path includes providing a single
crystal silicon substrate with a first substrate surface and a second
substrate surface. The method further includes forming a reflector support
layer on the first substrate surface. The method further includes forming
a support frame and at least one reflector by etching the substrate from
the second substrate surface. The method further includes forming at least
one electrical conduit on the reflector support layer. The method further
includes forming a reflector support by etching the reflector support
layer from the first substrate surface, the reflector support mechanically
coupled to the support frame and the reflector, the reflector support
movable such that the reflector is movable substantially perpendicularly
to the first substrate surface.
Un método para fabricar un módulo para por lo menos parcialmente interceptar un rayo de luz que propaga a lo largo de una trayectoria de viga incluye proveer de un substrato del silicio del solo cristal una primera superficie del substrato y una segunda superficie del substrato. El método más futuro incluye la formación de una capa de la ayuda del reflector en la primera superficie del substrato. El método más futuro incluye la formación de un marco de la ayuda y por lo menos de un reflector grabando al agua fuerte el substrato de la segunda superficie del substrato. El método más futuro incluye la formación por lo menos de un conducto eléctrico en la capa de la ayuda del reflector. El método más futuro incluye la formación de una ayuda del reflector grabando al agua fuerte la capa de la ayuda del reflector de la primera superficie del substrato, de la ayuda del reflector juntada mecánicamente al marco de la ayuda y del reflector, el mueble de la ayuda del reflector tales que el reflector es movible substancialmente perpendicular a la primera superficie del substrato.
