Disclosed is a technique capable of connecting patterns of a master mask
easily. Integrated circuit patterns are transferred onto pattern transfer
regions of a product mask by the reduced projection exposure using a
plurality of IP masks. Thereafter, the patterns of the adjacent pattern
transfer regions are connected by a light-shielding pattern made of an
organic film, which is formed by the exposure using an energy beam.
Onthuld wordt een techniek geschikt om patronen van een hoofdmasker gemakkelijk te verbinden. De patronen van geïntegreerde schakelingen worden overgebracht op de gebieden van de patroonoverdracht van een productmasker door de verminderde projectieblootstelling gebruikend een meerderheid van IP maskers. Daarna, worden de patronen van de aangrenzende gebieden van de patroonoverdracht verbonden door een licht-beschermt patroon dat van een organische film wordt gemaakt, die door de blootstelling gebruikend een energiestraal wordt gevormd.
