In most cases, a hot, corrosive atmosphere is created in, for example, a
semiconductor wafer processing chamber. When an arm including belts, such
as steel belts, is moved into such a semiconductor wafer processing
chamber, the belts are exposed to the hot, corrosive atmosphere. Belts,
such as steel belts, have limited heat resistance and corrosion resistance
and the hot, corrosive atmosphere in the processing chamber shortens the
life of the belts. A carrying device of the present invention has a frog
leg type arm (3) and a wafer holder (4) connected to the frog leg type arm
(3). The wafer holder (4) is pivotally connected to front end parts of a
first front arm (8A) and a second front arm (8B) by coaxial joints (10).
The wafer holder (4) is linked to the first front arm (8A) and the second
front arm (8B) by a posture maintaining linkage (5) including two
antiparallel linkages capable of controlling the turning of the wafer
holder (4) relative to the first and the second front arms (8A, 8B).
In den meisten Fällen wird eine heiße, ätzende Atmosphäre innen z.B. ein Halbleiterplättchen verursacht, das Raum verarbeitet. Wenn ein Arm einschließlich Riemen, wie Stahlriemen, in solch ein Halbleiterplättchen verschoben wird, das Raum verarbeitet, werden die Riemen der heißen, ätzenden Atmosphäre ausgesetzt. Riemen, wie Stahlriemen, haben Hitzebeständigkeit begrenzt und Korrosionsbeständigkeit und die heiße, ätzende Atmosphäre im verarbeitenraum verkürzt das Leben der Riemen. Eine tragende Vorrichtung der anwesenden Erfindung hat eine Froschschenkelart Arm (3) und einen Oblatehalter (4), der an die Froschschenkelart Arm (3) angeschlossen wird. Der Oblatehalter (4) wird als Drehpunkt an vorderes Ende Teile eines ersten Frontseite Armes (8A) und des zweiten Frontseite Armes (8B) durch Koaxialverbindungen (10) angeschlossen. Der Oblatehalter (4) wird mit dem ersten Frontseite Arm (8A) und dem zweiten Frontseite Arm (8B) durch ein beibehaltenes Gestänge der Lage (5) einschließlich zwei antiparallel Gestänge verbunden, das zum Steuern des Drehens des Oblatehalters (4) im Verhältnis zu dem ersten und der zweiten Frontseite Arme (8A, 8B) fähig ist.
